2025 Q3-rapport
49 dagar sedanOrderdjup
Nordic Growth Market
Antal
Köp
136 777
Sälj
Antal
46 329
Senaste avslut
| Tid | Pris | Antal | Köpare | Säljare |
|---|---|---|---|---|
| 203 | AVA | NON | ||
| 20 000 | AVA | NON | ||
| 80 000 | AVA | AVA | ||
| 10 000 | AVA | NON | ||
| 14 813 | AVA | NRD |
Högst
0,098VWAP
Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
VWAP
Högst
0,098Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
Mäklarstatistik
Ingen data hittades
Företagshändelser
| Nästa händelse | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20 feb. |
| Tidigare händelser | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14 nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25 juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9 maj 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14 feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8 nov. 2024 |
Data hämtas från FactSet
Kunder har även besökt
Shareville
Delta i diskussionerna på SharevilleFå inspiration från tusentals portföljer och diskutera med andra duktiga investerare.
Logga in
för 12 tim sedan · Ändradför 12 tim sedan · ÄndradOberoende spaning - diverse källor: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut att gå mot en tvådelad framtid: (1) snabb och bred industrialiserad tillväxt i “replication-first”-områden (fotonik/metaytor/AR-optik, LED/PV, mikrooptik), och (2) en mer osäker men seriöst satsad väg mot utvalda halvledarsteg där kostnad/energi/enkla processflöden kan slå igenom – om defectivity, overlay och template-ekosystemet når “massproduktion i praktiken”. Var NIL står just nu NIL har mognat rejält och lyfts ofta fram som särskilt attraktivt där man vill kopiera samma nanostruktur om och om igen över stora ytor (t.ex. diffraktiv optik, vågledare, metasurfaces). I avancerad chip-litografi är den mest uppmärksammade kommersiella satsningen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon själva lyfter som en mer energieffektiv och potentiellt billigare väg än EUV i vissa flöden. Det som driver NIL framåt (varför intresset ökar) Kostnad och energi: Canon har explicit marknadsfört NIL som betydligt lägre energibehov och enklare processteg jämfört med EUV i deras narrativ. Fotonik/AR och stora ytor: Roll-to-plate/rolling NIL lyfts som en möjliggörare för skalbar tillverkning av AR-vågledare/diffraktiva element och relaterad mikrooptik. Template-innovation: Det händer saker runt templates (stamparna) och deras upplösning/produktion, vilket är centralt för att NIL ska skala till “riktig” volym. De största hindren (det som avgör om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduktion är det här de klassiska “make-or-break” punkterna: Defekter/partiklar (kontaktprocess → känslig för kontamination) och yield-frågor. Overlay/alignment (att lägga många lager exakt ovanpå varandra) och mekaniska deformationer/wafer-distortion i kontaktsteg. Template-livslängd, kostnad och supply chain (tillverkning, inspektion, rengöring, ersättning). Trolig utveckling 2026–2030 1) Starkast och mest sannolik tillväxt: fotonik & nanooptik Här passar NIL:s “kopieringsstyrka” perfekt: samma gitter/metayta/vågledarstruktur kan replikeras med hög precision och bra styckkostnad när processen sitter. 2) Halvledare: mer selektivt – först där NIL ger tydlig ROI Snarare än att “ersätta EUV rakt av” är det mer realistiskt att NIL tar nischer eller specifika lager (t.ex. mönster som är väl lämpade för imprint, eller där kostnad/energi/verktygsflöde dominerar). Canon positionerar också NIL som ett EUV-alternativ på kost/energi, men industrin är fortfarande i en fas där bevis i HVM (high-volume manufacturing) är det som räknas. 3) EUV blir inte “stillasittande” – och det påverkar NIL:s fönster EUV (inkl. High-NA) fortsätter drivas fram trots mycket höga verktygskostnader, vilket betyder att NIL måste vinna där EUV blir för dyrt/energitungt eller där NIL ger färre processteg med acceptabel yield. Vad jag skulle hålla koll på (signalspaning) Oberoende HVM-resultat: inte bara pressreleaser – utan yield/defectivity/overlay-data över tid. Template-ekosystemet: leveranskapacitet, inspektion, rengöring, livslängd och kostnad per wafer. Genombrott i AR/metaytor: om AR-vågledare/metasurfaces skalar i volym kan NIL bli “default” för hela den optikklassen.
18 dec. 202518 dec. 2025Jag är nog ensam om att sitta på Svarte Petter eftersom ingen svarar. Det var ju trist..... Några tankar därute ?
19 dec. 202519 dec. 2025Tvärtom! De flesta sitter nog med Svarte Petter och flesta har nog gett upp.19 dec. 202519 dec. 2025Jag läste idag att kineserna försöker ta fram ett chip typ Nvidia och sådan görs med litografi. De har försökt kopiera det nederländska bolagets produkt men inte lyckats. Är det inget som grabbarna på Obducat borde kommentera och ifall det ligger i deras affärsområde för det borde kunna vara en riktigt trevlig cliff hanger.....
Kommentarerna ovan kommer från användare på Nordnets sociala nätverk Shareville och har varken redigerats eller på förhand granskats av Nordnet. Det innebär inte att Nordnet tillhandahåller investeringsrådgivning eller investeringsrekommendationer. Nordnet påtar sig inget ansvar för kommentarerna eller eventuella felaktigheter i automatiska översättningar.
Nyheter
Nyheter och/eller generella investeringsrekommendationer alternativt utdrag därav på denna sida och relaterade länkar är framtagna och tillhandahålls av den leverantör som anges. Nordnet har inte medverkat till framtagandet, granskar inte och har inte gjort några ändringar i materialet. Läs mer om investeringsrekommendationer.
2025 Q3-rapport
49 dagar sedanNyheter
Nyheter och/eller generella investeringsrekommendationer alternativt utdrag därav på denna sida och relaterade länkar är framtagna och tillhandahålls av den leverantör som anges. Nordnet har inte medverkat till framtagandet, granskar inte och har inte gjort några ändringar i materialet. Läs mer om investeringsrekommendationer.
Shareville
Delta i diskussionerna på SharevilleFå inspiration från tusentals portföljer och diskutera med andra duktiga investerare.
Logga in
- för 12 tim sedan · Ändradför 12 tim sedan · ÄndradOberoende spaning - diverse källor: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut att gå mot en tvådelad framtid: (1) snabb och bred industrialiserad tillväxt i “replication-first”-områden (fotonik/metaytor/AR-optik, LED/PV, mikrooptik), och (2) en mer osäker men seriöst satsad väg mot utvalda halvledarsteg där kostnad/energi/enkla processflöden kan slå igenom – om defectivity, overlay och template-ekosystemet når “massproduktion i praktiken”. Var NIL står just nu NIL har mognat rejält och lyfts ofta fram som särskilt attraktivt där man vill kopiera samma nanostruktur om och om igen över stora ytor (t.ex. diffraktiv optik, vågledare, metasurfaces). I avancerad chip-litografi är den mest uppmärksammade kommersiella satsningen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon själva lyfter som en mer energieffektiv och potentiellt billigare väg än EUV i vissa flöden. Det som driver NIL framåt (varför intresset ökar) Kostnad och energi: Canon har explicit marknadsfört NIL som betydligt lägre energibehov och enklare processteg jämfört med EUV i deras narrativ. Fotonik/AR och stora ytor: Roll-to-plate/rolling NIL lyfts som en möjliggörare för skalbar tillverkning av AR-vågledare/diffraktiva element och relaterad mikrooptik. Template-innovation: Det händer saker runt templates (stamparna) och deras upplösning/produktion, vilket är centralt för att NIL ska skala till “riktig” volym. De största hindren (det som avgör om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduktion är det här de klassiska “make-or-break” punkterna: Defekter/partiklar (kontaktprocess → känslig för kontamination) och yield-frågor. Overlay/alignment (att lägga många lager exakt ovanpå varandra) och mekaniska deformationer/wafer-distortion i kontaktsteg. Template-livslängd, kostnad och supply chain (tillverkning, inspektion, rengöring, ersättning). Trolig utveckling 2026–2030 1) Starkast och mest sannolik tillväxt: fotonik & nanooptik Här passar NIL:s “kopieringsstyrka” perfekt: samma gitter/metayta/vågledarstruktur kan replikeras med hög precision och bra styckkostnad när processen sitter. 2) Halvledare: mer selektivt – först där NIL ger tydlig ROI Snarare än att “ersätta EUV rakt av” är det mer realistiskt att NIL tar nischer eller specifika lager (t.ex. mönster som är väl lämpade för imprint, eller där kostnad/energi/verktygsflöde dominerar). Canon positionerar också NIL som ett EUV-alternativ på kost/energi, men industrin är fortfarande i en fas där bevis i HVM (high-volume manufacturing) är det som räknas. 3) EUV blir inte “stillasittande” – och det påverkar NIL:s fönster EUV (inkl. High-NA) fortsätter drivas fram trots mycket höga verktygskostnader, vilket betyder att NIL måste vinna där EUV blir för dyrt/energitungt eller där NIL ger färre processteg med acceptabel yield. Vad jag skulle hålla koll på (signalspaning) Oberoende HVM-resultat: inte bara pressreleaser – utan yield/defectivity/overlay-data över tid. Template-ekosystemet: leveranskapacitet, inspektion, rengöring, livslängd och kostnad per wafer. Genombrott i AR/metaytor: om AR-vågledare/metasurfaces skalar i volym kan NIL bli “default” för hela den optikklassen.
- 18 dec. 202518 dec. 2025Jag är nog ensam om att sitta på Svarte Petter eftersom ingen svarar. Det var ju trist..... Några tankar därute ?19 dec. 202519 dec. 2025Tvärtom! De flesta sitter nog med Svarte Petter och flesta har nog gett upp.19 dec. 202519 dec. 2025Jag läste idag att kineserna försöker ta fram ett chip typ Nvidia och sådan görs med litografi. De har försökt kopiera det nederländska bolagets produkt men inte lyckats. Är det inget som grabbarna på Obducat borde kommentera och ifall det ligger i deras affärsområde för det borde kunna vara en riktigt trevlig cliff hanger.....
Kommentarerna ovan kommer från användare på Nordnets sociala nätverk Shareville och har varken redigerats eller på förhand granskats av Nordnet. Det innebär inte att Nordnet tillhandahåller investeringsrådgivning eller investeringsrekommendationer. Nordnet påtar sig inget ansvar för kommentarerna eller eventuella felaktigheter i automatiska översättningar.
Orderdjup
Nordic Growth Market
Antal
Köp
136 777
Sälj
Antal
46 329
Senaste avslut
| Tid | Pris | Antal | Köpare | Säljare |
|---|---|---|---|---|
| 203 | AVA | NON | ||
| 20 000 | AVA | NON | ||
| 80 000 | AVA | AVA | ||
| 10 000 | AVA | NON | ||
| 14 813 | AVA | NRD |
Högst
0,098VWAP
Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
VWAP
Högst
0,098Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
Mäklarstatistik
Ingen data hittades
Kunder har även besökt
Företagshändelser
| Nästa händelse | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20 feb. |
| Tidigare händelser | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14 nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25 juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9 maj 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14 feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8 nov. 2024 |
Data hämtas från FactSet
2025 Q3-rapport
49 dagar sedanNyheter
Nyheter och/eller generella investeringsrekommendationer alternativt utdrag därav på denna sida och relaterade länkar är framtagna och tillhandahålls av den leverantör som anges. Nordnet har inte medverkat till framtagandet, granskar inte och har inte gjort några ändringar i materialet. Läs mer om investeringsrekommendationer.
Företagshändelser
| Nästa händelse | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20 feb. |
| Tidigare händelser | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14 nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25 juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9 maj 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14 feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8 nov. 2024 |
Data hämtas från FactSet
Shareville
Delta i diskussionerna på SharevilleFå inspiration från tusentals portföljer och diskutera med andra duktiga investerare.
Logga in
- för 12 tim sedan · Ändradför 12 tim sedan · ÄndradOberoende spaning - diverse källor: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut att gå mot en tvådelad framtid: (1) snabb och bred industrialiserad tillväxt i “replication-first”-områden (fotonik/metaytor/AR-optik, LED/PV, mikrooptik), och (2) en mer osäker men seriöst satsad väg mot utvalda halvledarsteg där kostnad/energi/enkla processflöden kan slå igenom – om defectivity, overlay och template-ekosystemet når “massproduktion i praktiken”. Var NIL står just nu NIL har mognat rejält och lyfts ofta fram som särskilt attraktivt där man vill kopiera samma nanostruktur om och om igen över stora ytor (t.ex. diffraktiv optik, vågledare, metasurfaces). I avancerad chip-litografi är den mest uppmärksammade kommersiella satsningen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon själva lyfter som en mer energieffektiv och potentiellt billigare väg än EUV i vissa flöden. Det som driver NIL framåt (varför intresset ökar) Kostnad och energi: Canon har explicit marknadsfört NIL som betydligt lägre energibehov och enklare processteg jämfört med EUV i deras narrativ. Fotonik/AR och stora ytor: Roll-to-plate/rolling NIL lyfts som en möjliggörare för skalbar tillverkning av AR-vågledare/diffraktiva element och relaterad mikrooptik. Template-innovation: Det händer saker runt templates (stamparna) och deras upplösning/produktion, vilket är centralt för att NIL ska skala till “riktig” volym. De största hindren (det som avgör om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduktion är det här de klassiska “make-or-break” punkterna: Defekter/partiklar (kontaktprocess → känslig för kontamination) och yield-frågor. Overlay/alignment (att lägga många lager exakt ovanpå varandra) och mekaniska deformationer/wafer-distortion i kontaktsteg. Template-livslängd, kostnad och supply chain (tillverkning, inspektion, rengöring, ersättning). Trolig utveckling 2026–2030 1) Starkast och mest sannolik tillväxt: fotonik & nanooptik Här passar NIL:s “kopieringsstyrka” perfekt: samma gitter/metayta/vågledarstruktur kan replikeras med hög precision och bra styckkostnad när processen sitter. 2) Halvledare: mer selektivt – först där NIL ger tydlig ROI Snarare än att “ersätta EUV rakt av” är det mer realistiskt att NIL tar nischer eller specifika lager (t.ex. mönster som är väl lämpade för imprint, eller där kostnad/energi/verktygsflöde dominerar). Canon positionerar också NIL som ett EUV-alternativ på kost/energi, men industrin är fortfarande i en fas där bevis i HVM (high-volume manufacturing) är det som räknas. 3) EUV blir inte “stillasittande” – och det påverkar NIL:s fönster EUV (inkl. High-NA) fortsätter drivas fram trots mycket höga verktygskostnader, vilket betyder att NIL måste vinna där EUV blir för dyrt/energitungt eller där NIL ger färre processteg med acceptabel yield. Vad jag skulle hålla koll på (signalspaning) Oberoende HVM-resultat: inte bara pressreleaser – utan yield/defectivity/overlay-data över tid. Template-ekosystemet: leveranskapacitet, inspektion, rengöring, livslängd och kostnad per wafer. Genombrott i AR/metaytor: om AR-vågledare/metasurfaces skalar i volym kan NIL bli “default” för hela den optikklassen.
- 18 dec. 202518 dec. 2025Jag är nog ensam om att sitta på Svarte Petter eftersom ingen svarar. Det var ju trist..... Några tankar därute ?19 dec. 202519 dec. 2025Tvärtom! De flesta sitter nog med Svarte Petter och flesta har nog gett upp.19 dec. 202519 dec. 2025Jag läste idag att kineserna försöker ta fram ett chip typ Nvidia och sådan görs med litografi. De har försökt kopiera det nederländska bolagets produkt men inte lyckats. Är det inget som grabbarna på Obducat borde kommentera och ifall det ligger i deras affärsområde för det borde kunna vara en riktigt trevlig cliff hanger.....
Kommentarerna ovan kommer från användare på Nordnets sociala nätverk Shareville och har varken redigerats eller på förhand granskats av Nordnet. Det innebär inte att Nordnet tillhandahåller investeringsrådgivning eller investeringsrekommendationer. Nordnet påtar sig inget ansvar för kommentarerna eller eventuella felaktigheter i automatiska översättningar.
Orderdjup
Nordic Growth Market
Antal
Köp
136 777
Sälj
Antal
46 329
Senaste avslut
| Tid | Pris | Antal | Köpare | Säljare |
|---|---|---|---|---|
| 203 | AVA | NON | ||
| 20 000 | AVA | NON | ||
| 80 000 | AVA | AVA | ||
| 10 000 | AVA | NON | ||
| 14 813 | AVA | NRD |
Högst
0,098VWAP
Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
VWAP
Högst
0,098Lägst
0,09OmsättningAntal
0 230 491
Mäklarstatistik
Ingen data hittades